美国光刻机能达到多少nm，美国为什么能控制光刻机

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实事求是地讲，美国不但有这个能力，而且具有这种技术。

为什么会如此肯定？其实原因很简单，那就是荷兰ASML（阿斯麦）极紫外光刻机的核心技术正是来自于美国。

目前能生产极紫外光刻机的厂家唯有荷兰阿斯麦，很多人认为这是阿斯麦的核心技术，实际上这技术来自美国。

90年代末，光刻机的光源采用的是193纳米的氟化氩激光。随着摩尔定律的推演，氟化氩激光的潜能即将耗尽。

简单介绍一下摩尔定律。摩尔定律是由英特尔创始人摩尔提出的，他认为集成电路的晶体管数每两年增加一倍。

通俗的讲，就是处理器芯片的性能每两年就要翻倍。

按照摩尔定律，芯片性能肯定不会因氟化氩激光的潜能被榨干而停滞不前，半导体行业必须要寻找新光源替代。

随后，高功率二氧化碳激光器浮出水面，其发射的极紫外光波长为13.5纳米，仅为氟化氩激光193纳米的7.1%。

但这个极紫外光也有缺点，那就是容易被不少材料吸收，且短波长易产生绕射以及良品率很低，总之问题很多。

英特尔是摩尔定律的坚定支持者，面对极紫外光的诱人虽然，英特尔下定决心要在极紫外光这一领域有所突破。

1997年，英特尔说服美国政府，与美能源部共同成立了极紫外光研发组织，这个组织汇集了美国顶级科研资源。

其中包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室，还有摩托罗拉和AMD等巨头公司。

在该组织中，美国成员是主体，在外国成员的选择上非常谨慎。英特尔当时想邀请阿斯麦和日本尼康加入进来。

但美国政府并不想让外国公司获得核心技术，阿斯麦立即表示：

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与尼康相比，阿斯麦的诚意显然打动了美国，阿斯麦也因此成为两家非美公司之一，另一家则是德国的英飞凌。

六年后，这个联合研发组织突破了极紫外光刻机技术。学成归来的阿斯麦，又用七年时间将理论技术变成现实。

在此期间，阿斯麦集合数所大学和十多个研发机构及公司，对技术进行消化，于2010年生产出首台EUV光刻机。

在这个攻关过程中，美国公司是参与其中的，所有核心技术美国是知晓的。在极紫外技术方面，美国没有瓶颈。

也就是说，在研发极紫外光刻机的技术上，美国不存在任何短板，其核心技术美国一样不少，技术上没有问题。

关键问题来了，美国能否以一己之力制造5纳米极紫外光刻机？

单从技术角度讲，美国是可以做到的，只不过可能工艺相对要粗糙一些，比如核心的分辨率和套刻精度要低些。

极紫外光刻机核心技术无外乎与光源、镜头、精加工及拼装工艺等，这些东西最终体现在分辨率和套刻精度上。

目前阿斯麦的镜头来自德国蔡司，而光源则来自美国Cymer，其它的小部件也是全球采购，自己只负责起装配。

极紫外光刻机的零件超过10万个，大部分是外购来的，这并不是阿斯麦没能力自产，而是其经营理念就是如此。

对美国来说，如果非要独自来制造，也不是没有可能，主要的困难可能就是镜头及安装工艺，但这不算卡脖子。

美国也有不少有实力的光学公司，比如海洋光学公司，还有些院校的光学研究中心，生产光刻机镜头应没问题。

装配工艺这个可以摸索，至于精加工，对美国来说也不是难点。所以说，美国独自是能够搞定极紫外光刻机的。

但事实上，这只是一种想法而已，美国没有任何必要去独自生产光刻机，在开放创新的时代，没人愿意这样干。

美国掌握核心技术，根本没必要事必躬亲，美国公司只需将芯片甩给代工厂，自己只负责开发设计与软件更迭。

由此可见，美国拥有极紫外光刻机的核心技术，完全可以独自制造。但从现实来看，美国根本没有必要这样做。

有疑虑的朋友，只需知道阿斯麦的极紫外光刻机的核心技术来自美国就行了，其它的讨论似乎就没什么意义了。

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